镀三元合金技术”是指由高导电性的银做基底，覆盖“三元合金”薄层的双层电镀技术，其中“三元合金”指铜锡锌的合金，铜占55%， 锡占25-30%，锌占15-20%， “三元合金”外观与不锈钢相似。其电阻系数为1.7μΩcm (RF-10 GHz)，导电率为59(106S/m) (RF-10 GHz)， 接触电阻小于10mΩ at 100 cN，在些微活性焊剂的帮助下呈可焊性。“镀三元合金技术”为适应高频连接、在宽频范围内最大传导率的要求而产生，另外，“镀三元合金技术”能使射频器件在经受工业气体、汗渍等的腐蚀或刮擦后，保持良好的外观，而无保护的银镀层即使在通常环境下也会迅速氧化。“镀三元合金技术”防止表面氧化及生膜，使用中不会失去表面光泽。镀三元合金表面防止刮擦、对磕碰不敏感的特性，也防止了镀银的冷焊及非良好配合组装引起的损坏。与镀银相比，在器件组装方面“镀三元合金技术”尤其降低了由擦碰引起的损失。
化学镀镍：不用外来电流，借氧化还原作用在金属制件的表面上沉积一层镍的方法。化学镀镍的分类：⒈按镀液的PH值分类：有酸性、中性和碱性三类。按沉积温度分类：有低温、中温、高温三类。按合金成分分类：有低磷、中磷和高磷三类。按所用还原剂分类：有Ni-P、Ni-B等。
镀银最早始于1800年，第一个专业镀银的zhuanli是1838年由英国伯明翰的Elkington兄弟提出的，所用的镀液为碱性氰化物镀液，与他们发明的碱性氰化物镀黄金体系很类似。一个多世纪以来，镀银液的基本配方和当年的配方差别不大，仅仅是提高了银配位离子浓度以达到快速镀银的目的而已。氰系镀液过去的主要缺点是使用的电流密度小，现在这个问题也解决了，高效镀银使电流密度可高达10A/dm，光亮镀银可达1．5～3A/dm，其镀面光滑而无需再打光，也可镀厚。近年来快速发展起来的电子元器件的高速选择性镀银，如引线框架的选择性镀银，采用喷射镀的方法。所用的电流密度高达300～3000A/dm，镀液中氰化银钾[KAg(CN)2]的浓度 也高达40～75g/L，阳极采用白金或镀铂的钛阳极，这样在1s内即可镀上约4～5μm的银层，它已能满足硅芯片和银焊垫之间用铝线来键合(Bonding)。
电镀厂中都有一些大大小小的镀三元合金槽子，初次接触的人都会问，这些都是什么槽，有什么用？金石电镀告诉您：镀三元合金热脱槽1、主要成分:脱脂剂，2、作用：去除基材表面油脂及其他脏污。镀三元合金粗化槽1、主要成分:硫酸、铬酸，2、作用：使产品表面形成细孔，易于吸附，减少麻点，避免产出附着力不够，百格不过等现象。镀三元合金敏化槽1、主要成分：钯酸、盐酸、氯化亚锡，2、作用：使产品表面吸附钯离子，减少溢镀、漏镀。解胶槽1、主要成分：硫酸，2、作用：去除前一槽的部分物质，减少溢镀、漏镀。化学镍槽1、主要成分：次亚磷酸钠，2、作用：使产品表面导电，减少溢镀、漏镀、麻点。六、焦磷酸铜槽，1、主要成分：氨水、焦铜、焦钾，2、作用：使产品表面镀上磷铜，减少烧焦、麻点。硫酸铜槽1、主要成分：硫酸、硫酸铜、氯离子，2、作用：使产品镀上铜，减少烧焦、麻点。八、全光镍槽1、主要成分：硫酸镍、硼酸、氯化镍，2、作用：使产品镀上镍，减少麻点、烧焦。六价铬槽1、主要成分：铬酸、三价铬、酸根，2、作用：产品镀上铬，减少烧白、麻点。水洗槽1、主要成分：脱脂水、硬水、纯水，2、作用：使产品洁净，方便检验和使用。
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